2021.02.19 162層3次元フラッシュ開発キオクシアと米WD
書き込み速度2.4倍に高速化
キオクシア(旧東芝メモリ)と米ウエスタンデジタル(WD)はこのほど、データを保存するメモリー素子を垂直に162層積層した3次元フラッシュメモリーを開発したと発表した。革新的技術を導入することで前世代(112層)に比べダイサイズを40%削減するとともに、書き込み性能を2倍以上向上させることに成功し... (つづく)
書き込み速度2.4倍に高速化
キオクシア(旧東芝メモリ)と米ウエスタンデジタル(WD)はこのほど、データを保存するメモリー素子を垂直に162層積層した3次元フラッシュメモリーを開発したと発表した。革新的技術を導入することで前世代(112層)に比べダイサイズを40%削減するとともに、書き込み性能を2倍以上向上させることに成功し... (つづく)
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