ペリクル付きEUVフォトマスク
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半導体「後工程」の完全自動化めざし、SATASが仕様作成・装置開発へ
フォトマスク上に微細パターン解像、DNPが成功 2ナノメートル世代以降のロジック半導体EUVリソグラフィー向け
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