2021.06.25 【支える半導体製造】日本電子タクト時間を大幅短縮、微細化にマルチビーム描画装置
マルチビーム描画装置「MBMW-101」はビーム径が20ナノメートル。20ナノメートルと別サイズ（10ナノメートルなど）を選択でき、自動切り替えが可能な「201」もある
マルチビーム描画装置「MBMW-101」はビーム径が20ナノメートル。20ナノメートルと別サイズ（10ナノメートルなど）を選択でき、自動切り替えが可能な「201」もある
