2021.08.17 韓国、EUVエコシステム構築へ2大メモリー企業を支援
ASMLのEUV露光装置「TWINSCAN NXE:3400C」
世界2大メモリーメーカーである韓国サムスン電子とSKハイニックスが、次世代EUV（極端紫外線）露光技術の採用を加速させている。これに伴い製造装置メーカーや材料メーカーが韓国に進出、また地場メーカーも研究開発を活発化させEUVエコシステムの構築に取り組んでいる。
露光（リソグラフィー）技術は、光を用いてフォトマスクと呼ばれるガラス基板に描画された回路パターンをシリコンウエハー上に露光・転写する技術。光源となるEUVの波長は13... (つづく)
