2022.09.01 【新技術】先端的ICプロセスで用いるリガクのX線関連製品

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【図8】高感度（ppmおよびppbレベル）でウエハー表面の汚染を分析するTXRF計測システム

【図8】高感度（ppmおよびppbレベル）でウエハー表面の汚染を分析するTXRF計測システム

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【図1】MFM310。マイクロスポットEDXRF、XRR、XRD機能を有するハイブリッド計測システム
【図2】MFM310の光学系構成。ゴニオメーターに搭載されたCOLORS™マイクロスポットビームモジュール
【図3】単色光源（左）と多色光源（右）のXRFスペクトル。単色光源では、低バックグラウンド、最小限のシリコン回析、高SN比の測定が可能
【図4】Onyx 3000の構成とレイアウト。ポリキャピラリー光学系またはCOLORS™ビームモジュール、4個の検出器、2D・3D光学顕微鏡を搭載
【図5】各種COLORS™のターゲット材料とスポットサイズ

【図6】ヘリウムパージにより軽元素の高SN比測定を実現
【図7】微細バンプの組成と厚さの高速・高精度な測定を可能にするOnyx 3000の光学系＋XRFハイブリッド機能
【図8】高感度（ppmおよびppbレベル）でウエハー表面の汚染を分析するTXRF計測システム
【図9】左図はTXRF－V310ツールの光学系構成、右図は各種元素の検出限界、VPD拡張機能がない場合（緑）とある場合（橙）
【図10】左図はリガクの高出力9kW回転対陰極モノクロメーター、右図は３種類の多層膜ミラーモノクロメーター、これらの中から対象元素に対する感度の高いものが自動で選択される

【図11】VPD機能プロセス

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