2022.10.28 【半導体製造装置特集】アルバック 「ULTiNA」、高密度TiN膜の生成制御 ストレスを調整可能
「ULTiNA」を搭載可能な半導体製造用スパッタリング装置「ENTRON-EX W300」
「ULTiNA」を搭載可能な半導体製造用スパッタリング装置「ENTRON-EX W300」
