2023.10.16 キヤノンが最先端品に適用可能 NIL半導体製造装置を発売
ナノインプリント半導体製造装置「FPA-1200NZ2C」
キヤノンは13日、ナノインプリント半導体製造装置「FPA-1200NZ2C」を発売した。
ナノインプリントリソグラフィー（NIL）技術を活用し、ウエハー上に塗布されたレジストにはんこを押すようにしてマスクを押し付けて回路パターンを形成する。インクジェットプリンターで培ったインク吐出技術を応用し、開発した。
光を照射し回路を焼き付ける従来型の投影露光装置が微細化の限界を迎えつつある中、NILは光学系を介さ... (つづく)
