2022.08.04 JSRグループの米インプリアEUV用金属酸化物レジスト開発推進

インプリア社のサイトから

SKハイニックスと共同で

　JSRは2日、グループ企業の米Inpria社（インプリア）とSKハイニックスとの間で、次世代DRAMに向けたEUV（極端紫外線）用金属酸化物レジストの共同開発が進んでいると発表した。パターン形成の複雑さの軽減を目指している。最先端DRAMチップ製造への応用検討が加速している。

　InpriaはEUV用...　　(つづく)