2025.07.25 【半導体／エレクトロニクス商社特集】先端半導体の利用に期待　各社、微細プロセス開発に力

2ナノメートル試作ウエハー（出所＝ラピダス）

2ナノメートル試作ウエハー（出所＝ラピダス）

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2ナノメートル試作ウエハー（出所＝ラピダス）
アリゾナ工場（出所＝TSMC）
先端プロセスの進展を語るインテル・ファウンドリーのナガ・チャンドラセカランCTO兼COO（出所＝インテル）

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