2025.09.12 アドバンテストがマスク用CD-SEM新製品　最先端半導体製造向け

マスク用CD-SEM「E3660」

　アドバンテストは9日、最先端半導体の製造に必要なフォトマスクやEUV（極端紫外線）マスクのパターン寸法測定用CD-SEM（測長用の走査型電子顕微鏡応用装置）「E3660」の販売を開始したと発表した。最先端マスクの開発・製造用評価装置として本格的に販売を展開する。

　新製品は従来機「E3650」と比べ、測長再現性が20％以上向上し、2ナノメートルノード以降のマスク製造に求められる測定要求に対応可能。最先端デバイス製造において半導...　　(つづく)