2026.05.01 THK、半導体製造装置向け「PFASフリー真空用グリース」展開　環境規制に対応

PFASフリー真空用グリース

　THKは、半導体製造装置の真空環境で使われるTHKオリジナル「PFASフリー真空用グリース」の受注を開始した。装置内の汚染リスクを抑え、スムーズな動きを支える。海外にも順次展開していく予定だ。

　新製品は、PFAS（有機フッ素系化合物）フリー・メタルフリーの処方と工程で製造。真空の用途に不可欠な「低い蒸気圧・低摺動（しゅうどう）・低発塵（はつじん）・低アウトガス性能」を備える直動製品に最適なグリースだ。

　近年、人体に影響するリスクが懸念されるPFASに対する規制が、欧米を中心に強化されつつある。真空などの特殊環境で多く使用されているフッ素系グリースでは、組成を校正している物質PFPE（パーフルオロポリエーテル）やPTFE（ポリテトラフルオロエチレン）でも、将来的な使用制限や製造・輸入禁止などのリスクが高まっている。こうしたリスクを踏まえ、優れた潤滑性能を持つ今回の新製品を開発した。