2023.04.10 米プラズマ・サーモ、日本市場で一層の浸透狙う 量産用薄膜形成装置投入、膜質と速度を追求
量産用薄膜形成装置「KOBUS F.A.S.T.」
多層成長、ALDの10倍処理
半導体製造装置の米プラズマ・サーモは、量産と研究開発向けの成膜・エッチング装置の投入で日本市場でのさらなる浸透を狙う。
「KOBUS F.A.S.T.」は量産用薄膜形成装置。CVD（化学的気相成長法）とALD（原子層堆積法）に比べ特徴的な性能を示す。
CVDの成膜のスルー... (つづく)
