2024.03.28 2ナノ世代ロジック半導体向けフォトマスク　DNPが製造プロセス開発へ　EUV対応

2ナノ世代EUVリソグラフィー向けフォトマスク

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2ナノ世代EUVリソグラフィー向けフォトマスク
異物の付着を防ぐため、ペリクル付きEUV向けフォトマスク製造プロセスの開発を推進する

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