2024.04.01 2ナノメートル世代のEUVリソグラフィー向けフォトマスク DNPが製造プロセス開発へ
EUVリソグラフィー向けフォトマスク
大日本印刷（DNP）は3月27日、半導体製造の最先端プロセスのEUV（極端紫外線）リソグラフィーに対応した、2ナノメートル世代のロジック半導体向けフォトマスク製造プロセスの開発を本格的に開始した、と発表した。
NEDO事業に参画
今回、Rapidus（ラピダス）が参画している新エネルギー・産業技術総合開発機構（NEDO）の〝ポスト5G情報通信システム基盤強化研究開発事業〟に、ラピダ... (つづく)
