2024.11.06 東ソーが高純度GaNスパッタリングターゲット材の製造を開始　半導体製造の低コスト化に貢献

高純度のGaNスパッタリングターゲット材

　東ソーは、窒化ガリウム（GaN）スパッタリングターゲット材を開発した。同社グループの東ソー・スペシャリティマテリアル（山形市）で製造を開始した。

　GaNは、照明向けLEDや小型急速充電器向け部品などで活用されている半導体薄膜材料。既存の材料よりもエネルギー損失が低く省エネ効果が高いことから、データセンター向けパワー半導体、ウエアラブルディスプレー向けマイクロLEDなどの用途で市場成長が見込まれている。

　...　　(つづく)