2020.10.09 窒化シリコン薄膜の熱伝導率を倍増JSTと東大が 表面フォノンポラリトン用いて成功

　科学技術振興機構（JST）と東京大学は、光とフォノンの混合状態である表面フォノンポラリトンを用いて窒化シリコン薄膜の熱伝導率を倍増することに成功した。高集積化が進んだ半導体デバイスでは、熱を運ぶフォノンが散乱されて放熱が困難になるため、高性能化に向けて新しい放熱機構や材料が求められている。今回の研究成果は新しい放熱機構として、半導体デバイスの高性能化への貢献が期待される。

　JST戦略的創造研究推進事業において、東京大学生産技...　　(つづく)