次世代半導体材料として注目される酸化ガリウム。タムラ製作所のカーブアウトベンチャー、ノベルクリスタルテクノロジー（埼玉県狭山市）と大陽日酸、東京農工大、新エネルギー・産業技術総合開発機構（NEDO）は1日、酸化ガリウムについて、世界で初めての成功を発表した。

　有力な手法であるハライド気相成長（HVPE）法で、6インチウエハー上に成膜することに成功したもの。大口径で複数枚のエピウエハーを製造する装置の実現へ向け、大きく進展した。低コスト化を通じて実用化につなげ、脱炭素に資するパワーデバイスをめざす。
（2日の電波新聞・電波新聞デジタルで詳報します）