2024.12.18 フォトマスク上に微細パターン解像、DNPが成功　2ナノメートル世代以降のロジック半導体EUVリソグラフィー向け

2ナノメートル世代以降のEUVリソグラフィー向けフォトマスク

　大日本印刷（DNP）は、半導体製造の最先端プロセスのEUV（極端紫外線）リソグラフィーに対応した、2ナノメートル世代以降のロジック半導体向けフォトマスクに要求される微細なパターンの解像に成功したと発表した。

　また、それ以降の次世代半導体向けに適用が検討されている高開口数（高NA）に対応したフォトマスクの基礎評価が完了し、半導体開発コンソーシアムや製造装置メーカー、材料メーカーなどへ評価用フォトマスクの提供を開始した。高NA-...　　(つづく)