ベルギーの半導体研究開発機関imec（アイメック）は18日、オランダASML社製の最先端高開口数（High NA）EUV露光装置「EXE:5200」を、ベルギーのルーベンにあるアイメックに設置したと発表した。アイメックの300mmウエハー対応のクリーンルームに到着し、設置作業が始まった。

　アイメックは同装置を活用することで、次世代ロジックや高密度メモリーなど、2nm（ナノメートル）の微細化プロセスによる基盤技術の確立に向け、欧州半導体メーカーの研究開発能力を引き上げる。

　同装置は、開口数0.55の高開口数EUV（極端紫外線）方式を採用。既存のEUV装置を上回る解像度と処理能力を実現した。回路線幅の一段の縮小が可能となり、AI（人工知能）や高性能計算機（HPC）向け次世代チップの開発を加速化させる技術として注目されている。

　アイメックのルク・ヴァン・デン・ホーヴェCEOは、EX:5200の設置について「今回の導入は高開口数EUV技術を業界で実用可能な段階へ引き上げる」と強調した。ASML側も「アイメックの導入はプロセス技術がオングストローム（0.1nm）時代へ移行するための重要な一歩。今後も高開口数ＥＵＶ技術の拡張を加速化させる」（クリストフ・フーケCEO）と述べた。同装置は、2026年末までに本格稼働の予定。

　欧州メディアでは、同装置の価格が約4億ドルで、世界に10台しか存在しないと報じている。高開口数EUV 技術の導入では今月中旬、IBMと米半導体製造装置メーカーのラム・リサーチが1nm以下の微細回路実現に向け共同研究することで合意している。