2021.07.29 【半導体／エレ商社特集】微細化技術2ナノメートルの領域へ突入

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2ナノメートルプロセスの半導体素子（出所＝IBM）

2ナノメートルプロセスの半導体素子（出所＝IBM）

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2ナノメートルを形成したシリコンウエハー（出所＝IBM）
2ナノメートルプロセスの半導体素子（出所＝IBM）
TSMCの半導体工場内部（出所＝TSMC）

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