2022.10.07 サムコが次世代パワー半導体デバイス向け新型プラズマALD装置販売

プラズマALD装置「AD-800LP」

　サムコは、炭化ケイ素（SiC）、窒化ガリウム（GaN）を材料にした次世代パワー半導体デバイスのゲート酸化膜形成用として、新型プラズマALD（原子層堆積）装置「AD-800LP」の販売を開始した。価格は8800万円（税別）。販売目標は年間10台。

　同装置はロードロック室と反応室を装備した研究開発および試作開発向け。生産用の真空カセット対応や複数反応室を接続可能なクラスター対応も検討している。

　成膜有効径は...　　(つづく)