2023.03.16 p型半導体「酸化イリジウムガリウム」の技術進展　フロスフィアとJSR

発表資料から

　京大発のベンチャーで、半導体を手掛けるFLOSFIA（フロスフィア、京都市西京区）とJSRは15日、p型半導体「酸化イリジウムガリウム」での技術進展を発表した。新規成膜材料を開発したもの。結晶成長速度、量産性などの課題を解消するめどがついたという。

　電力変換器のコスト節減、小型化などに貢献すると期待される。
（17日付の電波新聞・電波新聞デジタルで詳報します）