2023.03.17 FLOSFIAとJSR　「酸化イリジウムガリウム」実用化に向け、進展　新材料を共同開発、課題解消にめど

JSR開発の新材料を用いた断面。良好なカバレッジを実現している

　半導体を手掛けるスタートアップのFLOSFIA（フロスフィア、京都市西京区）とJSRは15日、世界初のP型半導体「酸化イリジウムガリウム」実用化に向けての進展を発表した。両社は新しいイリジウム系成膜材料を共同開発。フロスフィアがパワー半導体として展開する世界初のコランダム型酸化ガリウムと組み合わせて使う新規P型半導体の量産を目指し課題に取り組んだ結果、産業応用に向けて、解決の見通しがついたとしている。

　酸化イリジウムガリウム...　　(つづく)