2023.03.31 JX金属　台湾拠点で生産能力8割増　半導体用スパッタリングターゲット

台湾日鉱金属の外観

　JX金属は29日、台湾の拠点で半導体用スパッタリングターゲットの生産能力を増強すると発表した。加工設備を増強し、生産能力を現行から約8割引き上げる。投資規模は数十億円。今後、新規ラインの設計・建設・立ち上げを進め、2024年度下期以降、随時稼働を予定する。

　グループの半導体用スパッタリングターゲットは、最先端のロジックやメモリーなどをはじめ、各種半導体デバイスの製造に使われている。

　今回の投資は、子会社...　　(つづく)