2024.01.16 キヤノンの半導体露光装置事業戦略 光学機器事業本部・岩本和徳副事業本部長に聞く
ナノインプリント半導体製造装置「FPA-1200NZ2C」
NIL製造装置を昨秋投入
生産性が高く省エネ
キヤノンの半導体露光装置事業は、DRAMやロジック系の需要が復調し、2024年度の受注台数は前年度より増加する見通し。従来型の露光装置が微細化の限界を迎えつつある中、昨年10月に最先端ノードへの対応も可能なナノインプリントリソグラフィ（NIL）半導体製造装置を発売し注目された。光学機器事業本部の... (つづく)
