レーザーテックは、光応用技術を用いた半導体向け検査・計測装置を提供し、技術の高度化・革新を支えている。

　セミコンジャパンでは、高NA（開口数）対応のアクティニックEUV（極端紫外線）パターンマスク欠陥検査装置ACTIS「A300」シリーズを紹介する。同装置はEUVリソグラフィーを用いた最先端プロセスで導入されているACTIS「A150」の後継機種。さらなる微細化プロセスと高NAリソグラフィーに対応するACTISの次世代機の位置付けとなる。

　A300は新設計の光学系や高輝度光源「URASHIMA」を採用。A150と比較して非常に高い欠陥検出性能を実現した。

　高NAリソグラフィーではXY方向の投影倍率が異なるアナモルフィック光学系が採用され、それぞれの方向で異なる解像度が求められる。A300は現行のNAリソグラフィー向けと高NAリソグラフィー向け、両方のEUVマスク検査に対応する。

　12月にリリースした新製品も紹介する。

　EUVペリクル（マスク保護膜）異物検査装置PELMISシリーズは、ペリクル付きEUVマスクのペリクル面の異物検査と付着異物の表裏自動分類を実現した。ACTISやEUVマスク裏面検査／クリーニング装置BASIC、マスクエッジ検査装置MZと併用することで、EUVマスクの全面検査が可能。生産性のさらなる最適化を促進する。

　EUVマスクブランクス（Mo／Si多層膜）欠陥検査／レビュー装置ABICSシリーズ「E320」は、新設計の高倍率シュバルツシルト光学系の採用と照明光学系の最適化により高NAリソグラフィーに必要な欠陥検出感度と欠陥座標精度を実現。次世代EUVマスクブランクスの欠陥管理と歩留まり向上に貢献する。