三井化学は、NEDO（新エネルギー・産業技術総合開発機構）が実施する「ポスト5G情報通信システム基盤強化研究開発事業／先端半導体製造技術の開発（補助）」での「先端半導体製造技術の開発（補助）」に採択された。開発項目は「露光周辺技術開発」「高出力EUV露光装置向けペリクル開発」。

　同事業は、ポスト5G時代に対応した先端半導体の安定供給と製造基盤の強化を目的とし、日本の産業競争力の中核となる半導体製造技術の確立を目指すもの。次世代半導体デバイス製造には、EUV（極端紫外線）露光装置の高出力化が不可欠とされ、対応できるペリクル技術の社会実装が強く求められている。

　同社は、これまで培ってきたペリクル生産技術に加え、ナノ材料設計技術や先端プロセス技術を基盤として、同事業を通じて高出力EUV露光環境下で耐久性と透過率を両立するペリクル技術の開発に取り組む。これにより、先端ロジック・メモリー半導体の生産プロセスでの歩留まり（良品率）の改善、生産性（スループット）の向上、露光工程での消費電力低減への大きな寄与を目指す。

　同事業での開発目標は、「EUV光透過率95％以上」と「EUV露光出力1000W以下で露光寿命ウエハー1万枚以上の耐久性」の二つの性能を両立するペリクルを開発するほか、これらにより露光にかかる電力消費量の15％以上削減を目指す。