2025.08.29 ウシオ電機干渉露光装置を開発 光電融合に対応 27年度春に販売開始へ
干渉露光装置の3D-CAD図
ウシオ電機は、干渉じまのピッチ精度0.01ナノメートルを達成し、位相シフト構造の形成を実現する干渉露光装置を開発した。新装置は2027年春の販売開始を予定する。
干渉じまは薄膜の上下で反射された光波が互いに干渉し、特定の波長の反射光を増強または低減。光学デバイスの性能向上やエネルギー効率の改善に利用されており、今回の装置は光電融合に対応する。
光電融合に用いられるレーザー光源では、導波路に回折格子を有す... (つづく)