クリエイティブテクノロジーは、半導体製造プロセスにおける微細化・高密度化に伴って需要が急増しているパーティクル対策に着目。静電チャック技術の仕組みを応用し、パーティクル除去に役立つさまざまなツールを提案する。

　「パーティクルコレクター」は、歩留まり改善に効果的なツール。大気環境、真空環境と多様なユースケースに対応したバリエーションをそろえ、ナノメートルレベルのパーティクルも引き寄せて捉える。

　「クリーニングウェハー」は、半導体製造装置向けのインラインステージクリーニングツールだ。ダミーウエハーの代わりに使用してクリーニングの時間を削減する。装置が停止してしまう時間を短縮し、生産性を向上させる。

　シリコンウエハー上に弾性のある特殊樹脂をコーティングし、ステージの平面部・エッジ部に接触したパーティクルを捕捉する。洗浄すれば繰り返し使用可能だ。

　「Ion Pad（イオンパッド）」は特殊樹脂コーティングにより、対象物との界面に分子間力を発現させ、対象物を把持するパッド。高い摩擦力を有し、シリコンウエハー搬送時の滑り止めとして採用され、高速、高精度な搬送による生産性アップを実現する。搬送ハンドとシリコンウエハー間の接触を最小化し、パーティクル低減にも役立つ。

　反りの大きなシリコンウエハーの搬送でも多くの採用実績がある。電気やバキュームなどのエネルギー供給は不要だ。

　静電チャック表面やチャンバー内部をクリーンに保つ要求も高まっている。同社は、静電チャック表面やチャンバー壁面に対する高密度耐プラズマコーティングも提供している。

　これらのパーティクル対策ツールは、最先端の半導体製造装置や部材製造のラインなどで引き合いが多い。同社は今後も提案に注力していく方針だ。