2022.12.27 13.5ナノメートルの光生成に成功 米インテル、EUVスキャナーで
成功を祝う技術者ら
インテルは今月、アイルランドのファブで、EUVスキャナーで13.5ナノメートルの波長の光の生成に成功した、と発表した。同社の掲げる新しいプロセスノード「インテル 4」技術の重要な要素で、大量生産に向けた重要な一歩としている。
拠点は、アイルランドのファブ34。マイクロチップの製造では長年、リソグラフィースキャナーが不可欠な要素となってきた。EUVスキャナーは、回路をこれまでにないほど小さく、より正確に印刷できるという。このプ... (つづく)
