2023.03.20 SCREEN、次世代パターン用直接描画装置開発

解像度2マイクロメートル、露光波長375ナノメートル対応の直接描画装置「LeVina」

　SCREENホールディングスは、世界最高水準の解像度2マイクロメートル、露光波長375ナノメートル対応の次世代パターン用直接描画装置「LeVina（レビーナ）」を開発し、7月から販売を開始する。

　5G、ポスト5G関連、IoTインフラを中心に拡大が続くICパッケージ基板や、FOPLPなどで求められている高精細描画、高生産性に応えた。

　2022年4月に発売した露光波長405ナノメートルの同社従来モデルの高速...　　(つづく)