2019.10.03 【装置が拓く半導体の未来 セミコン台湾19から】③ レーザーテック EUVマスク関連検査ソリューションをアピール
森泉 営業本部長
半導体ロジックの微細化とともに、次世代EUV（極端紫外線）露光技術の需要が拡大している。EUVは韓国サムスン電子が7ナノメートルプロセスを採用するほか、台湾のTSMCも今年第2四半期に第2世代7ナノメートルノードでEUV露光技術を導入、量産を開始した。TSMCは20年には台南の新工場「ファブ18」でEUV露光による5ナノメートルの量産に着手する予定で、3ナノメートルの開発も加速させている。
フォトマスクや各種ウエハーの欠陥検... (つづく)
