2025.08.27 リガクが半導体製造向けX線分析装置　ウエハー表面の汚染を高速分析

TXRF分析装置「ゼミスTX-3000」

　分析機器大手のリガクは、半導体製造におけるウエハー表面の微量汚染分析に対応した全反射蛍光X線（TXRF）分析装置「XHEMIS（ゼミス）TX-3000」を開発し、8月から販売している。新製品は最先端半導体プロセスに対応し、軽元素の分析に加え、処理速度は従来比で最大6倍を達成している。

　TX-3000は3種類の波長を切り替えられるX線源を採用し、蛍光X線分析では検出が難しいとされてきた軽元素（ナトリウム、マグネシウム、アルミニ...　　(つづく)