2026.09.04 王子ホールディングス、木質バイオマスレジストが最先端半導体プロセスの可能性を実証　High-NA EUV露光による超微細パターン形成を確認

　王子ホールディングスは4日、木質バイオマスを原料とする最先端半導体向けフォトレジストについて、次世代半導体製造技術であるHigh-NA（開口数0.55）EUV（極端紫外線）リソグラフィーを用いた評価で、プロセスノードA14を想定した微細パターン形成を確認したと発表した。

　AI（人工知能）やデータセンター、高性能コンピューティング（HPC）の急速な普及に伴い、半導体デバイスにはさらなる高性能化と低消費電力化が求められている。そ...　　(つづく)