半導体製造装置大手の蘭ASMLとベルギーの研究機関imecが、戦略的パートナーシップを結んだ。契約期間は5年間で、半導体産業の革新と持続可能な技術開発に向けた取り組みを本格化させることを目指している。

　ASMLは、最先端製造プロセス向けのEUV（極端紫外線）露光装置を提供する唯一の企業。半導体製造の要となるリソグラフィー分野をリードしている。一方、imecはベルギー・ルーベンに拠点を置き、ナノエレクトロニクスや量子エレクトロニクスなど幅広い分野で世界最先端の研究開発を行う国際機関だ。

　今回の契約では、ASMLの全製品ポートフォリオが対象。開口数（NA）0.55の次世代EUV装置や、従来型のEUV（NA 0.33）、DUV（深紫外線）液浸装置、光学計測システム、2016年に買収したHMI社のビーム技術などが含まれ、ハイエンドノードの開発に重点が置かれている。3月11日に契約を交わした。

　これらの装置やツールはimecの最先端パイロットラインに導入され、欧州連合（EU）も出資する「NanoICパイロットライン」の中核として活用される。同ラインは回路線幅2ナノメートル以下の最先端デバイス開発に必要なインフラを提供し、欧州の半導体エコシステムの競争力を高める役割を担う。

　研究開発の重点領域には、シリコンフォトニクス、メモリー、先進パッケージング技術などが含まれ、AI（人工知能）アプリケーションなど多様な市場への技術波及が期待される。

　ASMLのクリストフ・フーケ社長兼CEO（最高経営責任者）は「今回の合意は、半導体産業向けソリューション開発への決意を表すものだ」と述べた。imecのリュック・バン・デン・ホーヴェ社長兼CEOも「ASMLの全製品ポートフォリオが加わることで、当社のパイロットラインの能力を拡大し、さらに成熟させることができる」と語っている。

＜執筆・構成＝半導体ナビ＞