生成系の人工知能（AI）など高度なコンピューティングを支える先端半導体で、極端紫外線（EUV）の露光装置が多用されている。

　この分野でシェアを拡大しようと、半導体製造装置の大手、米国のアプライド・マテリアルズ社は、新しい技術を発表した。

　パターン形成といわれる工程を減らすことができ、チップ製造の時間やコスト、洗浄に大量に使う水、二酸化炭素排出量などを削減できるという。試算では、1カ月で10万ウエハー生産開始当たりで換算すると、コストが約2億5000万ドル節約できる。サムスン電子などが活用する見込みで、「独自の技術で、画期的な革新をもたらす」と訴求している。

（3日付電波新聞／電波新聞デジタルで詳報予定です）