2024.09.24 セントラル硝子が半導体向けエッチングガスCEG34E量産開始 次世代3D NAND Flash用に開発

フォトレジスト膜に対する選択比(既存ガスのC4F6ガスとの比較)

 セントラル硝子はこのほど、顧客の量産採用、今後の需要拡大に向けて、宇部工場(山口県宇部市)で、半導体向けエッチングガスCEG34Eの量産を開始した。

高積層化

 CEG34Eは、高積層化が進む次世代3D NAND Flash向けに開発された新しいプラズマエッチングガス。

 保有する特性は、先端世代の3D NAND Flashのメモリーホールの深掘りエッチング用途として優れた性能を発揮し、高積層3D NAND Flashの技術革新にも貢献する。

環境適応型

 また、同製品は低GWPガスでもあり、GHG(温室効果ガス)排出量の削減にも大きく寄与する。 

 同社は今後も、新たに開発した複数の環境適応型のエッチングガスをAI(人工知能)向け半導体製造用途として上市の予定だ。