2019.11.13 電流注入による世界最短波長深紫外レーザー発振に成功　名大と旭化成　ヘルスケア・医療などに応用

　名古屋大学未来材料・システム研究所の天野浩教授らの研究グループは、旭化成と窒化アルミニウム（AlN）基板を用いた深紫外（UV-C）半導体レーザーの共同研究を進めてきたが、このほど、室温パルス電流注入による271.8ナノメートルという世界で最も短波長のレーザー発振に成功した。

　同研究のUV-C半導体レーザーには、旭化成のグループ会社であるCrystal IS社が製造するAlN基板が用いられた。Crystal社のAlN基板は、2...　　(つづく)