2021.08.09 【支える半導体製造 材料編】JSR、フォトレジストに注力
オレゴンの工場（同社サイトから）
JSRは、かねて培ってきた高分子技術を生かし、半導体の回路形成の過程で使われるフォトレジストや、多層配線の形成に不可欠なCMP（化学的機械的研磨）用の材料などに対応している。需要拡大を踏まえて生産体制強化も進めている。
「いち早くグローバル展開を進めてきた。サプライチェーンを含めた、総合的な力が強み」という。最先端では、7ナノメートルや5ナノメートルのさらに先である3ナノメートルなどの技術確立が進み、回路の微細化が一層進展す... (つづく)
