2019.12.06 量子科学技術研究開発機構など 超短パルス軟X線レーザー特有の表面加工メカニズムを解明
量子科学技術研究開発機構、宇都宮大学、東京大学、早稲田大学、東北大学、理化学研究所、高輝度光科学研究センター（JASRI）の研究グループは、X線自由電子レーザー「SACLA」を用いて、超短パルス軟X線レーザーに特有の表面加工メカニズムを解明した。
ナノメートルスケールの半導体造形技術は、複雑な工程からなるリソグラフィプロセスで実現される。将来の量産化や低価格化を実現するには、より単純な直接加工プロセスを用いた精密加工技術によ... (つづく)
