2020.03.11 米ラムリサーチ、EUV露光パターニング向けドライレジスト技術発表
半導前工程で使用するドライエッチング装置大手の米ラムリサーチはこのほど、EUV（極端紫外線）露光のパターニング向けにドライレジスト技術を発表した。
同社はオランダの露光装置メーカーやベルギーの独立系研究機関IMECとの戦略的提携を通じて、EUV露光の分解能、生産性と歩留まりの向上に役立つ新たなドライレジスト技術を開発している。そのソリューション群は、EUVの感度と分解能の大幅な利点を提供することで、個々のEUVウエハー処理の... (つづく)
