商用高開口数EUVリソグラフィー（提供＝インテル）
米インテルは米国時間18日、業界初という商用高開口数（NA）極端紫外線（EUV）リソグラフィー装置の組み立てを完了したと発表した。今後1.4ナノメートルプロセス相当の微細な製造技術を採用し、人工知能（AI）などに対応した次世代プロセッサーの生産に利用する計画。
インテルは30億ドルを投じオレゴン州の研究開発施設に2万5000平方メートルのクリーンルームを増床。オランダの半導体製造大手ASMLの高NA EUV「TWINSCAN... (つづく)
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【2024年に新たに休刊となる日】
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▷8月12日（月）振替休日
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▷9月23日（月）振替休日
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▷11月4日（月）振替休日
