レーザーテックは、半導体製造を支える各種検査装置を主力とし、最先端領域の技術革新をけん引している。2019年に世界初のアクティニックEUV（極端紫外線）パターンマスク欠陥検査装置「ACTIS A150」を市場投入し、EUVリソグラフィーによる最先端半導体製造現場でのマスク品質管理に貢献。今回のセミコンジャパンでは、ウエハーファブでのEUVマスク品質管理の生産性を大幅に向上させる最新のマスク欠陥検査装置「ACTIS A200HiT」を紹介する。

　A200HiTは、光学系を最適化するとともに検査システムを刷新したのが特徴。スループットを大幅に向上させ、ウエハーファブで発生する全ての転写性欠陥を検出する感度を実現した。検査速度はA150の3倍となり、マスク検査コストの低減とより高い生産性でウエハーファブの歩留まり（良品率）向上に貢献する。

　高輝度光源「URASHIMA」を採用したアクティニックEUVパターンマスク欠陥検査装置ACTISシリーズとして、A150、A200HiTのほか、A300もラインアップしている。A300はA150の後継機種として、さらなる微細化プロセスと高NAリソグラフィーに対応。A150と比較して非常に高い欠陥検出性能を実現している。

　Ａ300は主にEUVマスクを製造するマスクショップ向けで実績が高い。Ａ200HiTはウエハーファブでのEUVマスクの受け入れ検査や定期的な品質確認検査での活用を見込む。Ａ200HiTのリリースにより、ウエハーファブでの採用拡大に弾みをつけたい考えだ。

　そのほか、今年7月に発表したEUVペリクル異物検査装置「PELMIS EPM200」もパネル展示する。同製品は、次世代EUVペリクルとして注目されるカーボンナノチューブ（CNT）ペリクルの検査に対応。ペリクルの異物検査に加え、従来は不可能とされていた付着異物の表裏自動分類機能を実現した。