2022.08.03 次世代DRAMでEUV技術JSR、SKと半導体で共同開発加速

インプリア社のサイトから

 JSRは2日、SKハイニックスとの間で、次世代DRAMに向け、 EUV用金属酸化物レジストの共同開発が進んでいると発表した。JSRの傘下に入った米インプリア社が取り組んでいるもの。 最先端DRAMチップ製造への応用検討が加速している。

 InpriaはEUV用金属酸化物レジストの広範な特許を持ち、最先端のDRAMチップ製造に必要な微細加工性能だけでなく、製造工程に必須とされる非常に低い欠陥レベルを達成することが評価されている。

(4日付電波新聞/電波新聞デジタルで詳報します)