レーザーテックは、世界初の極端紫外線（EUV）光を用いたアクティニックEUVパターンマスク欠陥検査装置「ACTIS A150」をメーン展示する。ブースでは、EUV露光全般にわたる各種検査装置や主力のマスクブランクス欠陥検査装置、ウエハー関連検査装置も紹介し、最先端の半導体検査技術をアピールする。

　A150は、波長の短いEUV光を利用したアクティニック検査技術を採用した世界初のEUVパターンマスク欠陥検査装置。従来のディープUV（DUV）レーザーを用いたマスク検査装置に比べて、圧倒的に欠陥検出感度が高く、EUVマスク特有の転写性位相欠陥の検出も可能となる。

　これまでもEUVプロセスにおけるマスク検査装置は存在したが、波長の長いDUVを利用した装置だけだった。従来は波長200ナノメートル前後のDUVを利用していたが、A150は13.5ナノメートルのEUV光を利用。解像度が飛躍的に向上し、従来は検出できなかった欠陥も検出できる。

　従来の検査装置で大きな課題だったのがペリクルの問題。半導体製造プロセスにおける露光工程では、パーティクル防止のため防じんフィルムとなるペリクルでマスク表面をカバーし露光を行うが、DUV光を透過しないためペリクルが付いた状態ではマスク検査ができなかった。

　A150はペリクルを透過するEUVを用いた検査装置のため、ペリクルを付着したマスクの検査が可能。ウエハの歩留まり向上に必要なEUVマスク関連のインフラのうち、大きな課題であったペリクルの問題を解決したことで、EUV露光によるウエハーの歩留まり向上に貢献する。

　同社はこれまで、EUVマスク裏面検査／クリーニング装置「BASICシリーズ」やEUVマスクブランクス欠陥検査／レビュー装置「ABICS E120」、EUVマスク欠陥検査装置「MATRICS X8ULTRAシリーズ」を製品化。A150の製品化によりEUV関連のラインアップがそろった。今後、EUV技術を成熟させ、最先端半導体の品質・歩留まり向上への貢献を目指す。

【セミコンジャパン2019特集】目次

●SMARTアプリケーションの総合展　きょうから東京ビッグサイトで
●半導体世界市場　19年、メモリー中心に低迷続く　20年は5Gなど牽引で回復予想
●東京ウエルズ　IoTデバイスのファイナルプロセスを紹介
●レーザーテック　アクティニックEUVパターンマスク欠陥検査装置など検査技術を訴求
●THK　LMガイドや新IoTサービスを紹介
●クラボウ　ウエハーダイシングテープ用基材フィルムなど出品
●新コスモス電機　一点式ガス検知警報器など出展